Ciotola in ceramica al nitruro di alluminio

Una ciotola in ceramica di nitruro di alluminio in genere non si riferisce alle stoviglie di tutti i giorni, ma è un componente ceramico chiave utilizzato nei settori high-tech e industriali. Le forme comuni includono crogioli, barchette, vassoi o corpi di camere di reazione. È prodotto mediante sinterizzazione della polvere di nitruro di alluminio (AlN) prodotta sinteticamente ad alte temperature, rendendolo un materiale ceramico funzionale avanzato.

• Conduttività termica estremamente elevata:Questo è il vantaggio più importante del nitruro di alluminio. La sua conduttività termica raggiunge 150-200 W/(m·K), paragonabile all'alluminio metallico e di gran lunga superiore alla ceramica di allumina, rendendolo un materiale ideale per la dissipazione del calore elettronico.
• Eccellente isolamento elettrico:L'elevata resistività di volume e la bassa costante dielettrica consentono un efficace isolamento della corrente, garantendo affidabilità in ambienti ad alta-tensione e ad alta-frequenza.
• Coefficiente di dilatazione termica corrispondente al silicio:Il suo coefficiente di espansione termica (4,5×10⁻⁶/ grado ) è molto vicino a quello dei chip di silicio (3,5×10⁻⁶/ grado ), riducendo al minimo lo stress termico durante i cambiamenti di temperatura e prevenendo danni al chip.
• Buona resistenza chimica:Presenta un'eccellente resistenza, in particolare ai metalli fusi come alluminio e gallio, nonché a molti sali, riducendo al minimo la reazione.
• Elevata resistenza meccanica e durezza:Le proprietà meccaniche superano quelle di molte ceramiche comuni, con una buona resistenza all'usura, sebbene la fragilità rimanga una caratteristica intrinseca della ceramica.
• Prestazioni non-tossiche e stabili:Non si decompone facilmente né rilascia sostanze nocive ad alte temperature e condizioni difficili.

Sfruttando le sue proprietà eccezionali, le ciotole in ceramica di nitruro di alluminio (crogioli/contenitori) sono ampiamente utilizzate nei seguenti campi di fascia alta-:

• Produzione di semiconduttori:

Crescita dei cristalli: crogioli per la crescita di cristalli singoli semiconduttori composti come arseniuro di gallio (GaAs) e fosfuro di indio (InP).

Lavorazione dei wafer: utilizzati come contenitori o vassoi durante i trattamenti termici ad alta-temperatura (ad es. ricottura, diffusione) a causa della loro pulizia, resistenza alle alte-temperature e natura non-contaminante.

Deposizione di film sottile: utilizzata come corpo o rivestimento della camera di reazione nelle apparecchiature di deposizione chimica in fase vapore (CVD).

• Imballaggio elettronico e dissipazione del calore:

Serve come substrati di dissipazione del calore o alloggiamenti di imballaggio per circuiti integrati ad alta-potenza, diodi laser (LD) e diodi a emissione di luce-emettitori di luce (LED), facilitando il rapido trasferimento di calore.

• Lavorazione dei metalli:

Utilizzati per crogioli, vasche e tubi di protezione di pozzetti termometrici nella fusione, raffinazione o trasporto di alluminio, rame, argento e relative leghe di elevata purezza-, soprattutto in applicazioni con requisiti rigorosi contro la contaminazione del ferro.

• Aerospaziale e militare:

Utilizzato in componenti isolanti e di dissipazione del calore-per dispositivi a microonde ad alta-potenza, moduli RF e sistemi radar.

• Ricerca e sviluppo:

Nei laboratori, utilizzati come recipienti di reazione per esperimenti di sintesi o analisi che richiedono temperature elevate, elevata conduttività termica, resistenza alla corrosione e un ambiente-esente da contaminazione.

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Rimaniamo impegnati nel miglioramento continuo del nostro sistema di gestione, fornendo ai clienti una garanzia di prodotto coerente e affidabile.

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